铝靶，高纯铝靶

北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯铝靶材及铝的相关镀膜产品，主要包括：

1、 高纯铝靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯铝靶材。

2、 高纯铝靶材纯度为：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。

3、 高纯铝靶材的规格：（1）平面靶材如Ø100*5mm平面高纯圆铝靶，150*100*3平面高纯板铝靶材，（2）磁控溅射用高纯铝靶：Ø100*120柱靶等。

4、 高纯铝靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。

5、 高纯铝靶材加工工艺：车，铣，等。

6、高纯铝靶材相关参数的介绍：外观：银白色 密度：2.70 g/cm3  熔点： 660℃沸点：2463℃ 。以上是北京冠金利新材料科技有限公司对高纯铝靶的相关介绍，高纯铝靶材规格尺寸可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问，请来电咨询！