硅靶材厂家，二氧化硅靶材价格，溅射硅靶，溅射二氧化硅靶

北京冠金利新材料科技有限公司长期为您供应高纯二氧化硅靶，高纯二氧化硅靶材及高纯二氧化硅靶的相关产品，产品详情如下：

1、   高纯二氧化硅靶材的纯度为：99.9%，99.99%，99.999%。

2、   高纯二氧化硅靶材的规格有：平面二氧化硅靶，圆环靶等如Ø76.2*4等。

3、   高纯二氧化硅颗粒：1-3mm,3-5mm,等。

4、   高纯二氧化硅粉末：-200目-2000目等。

高纯二氧化硅的相关参数如下：分子式：SiO2 外观：无色透明

5、   分子量： 60.06  密度 ：2.2g/cm3 熔点： 1730 ℃ 蒸汽压力：在2000℃时 1 Pa  在2200℃时 10 Pa 线膨胀系数： 0.5×10-6/K (293 ~ 1173K) 比热： 0.201 Cal/g.K  热导率： 0.00285 Cal/k.cm.S (287K) 硬度(摩氏)： 5.5  (克氏) 461 Kg/mm2  透明波段：0.2～ 9   折射率（λ=550nm）：1.46

6、   蒸发条件：用电子枪蒸发。 蒸发温度：1700 ℃   蒸发压力：～ 5 ×10-3 Pa 应用领域:增透膜、多层膜，滤光片，分光片，电容器膜等

7、以上所有高纯二氧化硅靶材，颗粒，粉末可根据客户要求定做，也可按图纸加工，如有疑问请来电咨询！

北京冠金利新材料科技有限公司长期为你供应高纯硅靶，高纯溅射硅靶材，高纯硅相关产品，产品详情如下：1、高纯硅靶的纯度为99.9%，99.99%，99.999%、99.9999%等.

2、高纯单晶硅片，高纯多晶硅片。常用尺寸170*85.5*9等。

3、高纯硅靶的常用规格：板靶：70*25.9*6等。

4、高纯硅粉：-200-500目，-325目，等。

5、高纯硅颗粒：1-5mm,200#,5-10mm等。

6、高纯单晶硅靶，高纯多晶硅靶。

7、相关参数：密度：2.42熔点：1410折射率：3.42。

8、北京冠金利新材料科技有限公司的其它高纯产品：

各种高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材：铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La  金靶Au 等。

合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝  V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。

 陶瓷靶材
　　ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。

                                                        注所有产品规格可根据客户要求定做。