99.99%锆靶材，4N锆靶，真空镀锆靶材，锆靶材，各种尺寸

北京冠金利新材料科技有限公司为您供应高纯锆靶材及锆的相关镀膜产品，主要包括：

1、 高纯锆靶:本公司供应适合于辉光放电溅射、射频辉光溅射、磁控溅射、离子束溅射、离子镀用的高纯锆靶材。

2、 高纯锆靶材纯度为：99.9%，99.95%,99.99%。

3、 高纯锆靶材的规格：（1）平面靶材如Ø100*5mm平面高纯圆锆靶，150*100*3平面高纯板锆靶材，（2）磁控溅射用高纯锆靶：Ø100*120柱靶等。

4、 高纯锆靶的原材料生产工艺：真空熔炼，熔融铸造，粉末冶金，热压，冷（热）等静压等。

5、 高纯锆靶材加工工艺：车，铣，等。

以上是北京冠金利新材料科技有限公司单质溅射靶材种类，根据金属靶材种类的不同，靶材所能达到的最高纯度也不相同，纯度一般为99.9%-99.9999%之间，根据溅射设备的不同，以上靶材常用形状规格有圆靶、板靶、旋转柱靶、旋转管靶、圆台靶、阶梯靶等，可根据您的要求定做，如果您有以上靶材需要，请来电咨询，我们会用诚信和品质给您一个满意的答复。